Die diodengepumpten Festkörperlaser hat TRUMPF speziell für die Mikrobearbeitung entwickelt. Sie erfüllen damit die besonderen Anforderungen, die für die Mikrobearbeitung essentiell sind:
| Kategorie | Nanosekundenlaser |
| Produkte | TruMicro 3120, TruMicro 3220 |
| Einsatzgebiete | Mikrobearbeitung: Schneiden, Strukturieren, Abtragen, Bohren |
Die Laser der TruMicro Serie 3000 werden überall dort eingesetzt, wo Anwender eine kontrollierte, hochpräzise Materialabtrag reproduzierbar benötigen. Typische Anwendungen sind das Schneiden, Strukturieren, Abtragen oder Bohren von Keramiken über Halbleiter bis zu Hartmetallen.
Unsere Laser können auch in Fertigungslininen integriert werden - sprechen Sie uns an.
Beim Bohren mit der TruMicro Serie 3000 wird das Material innerhalb weniger Nanosekunden aufgeschmolzen. Gleichzeitig entsteht, aufgrund der hohen Intensitäten von über einem Gigawatt pro Quadratzentimeter, ein Dampfdruck, der ausreicht, um das geschmolzene Volumen auszutreiben. Diese Kombination aus Aufschmelzen und Austreiben durch den Laserpuls macht den Einsatz eines Prozessgases obsolet. Das ermöglicht den Einsatz eines Scanners zum Remote-Bohren, -Schneiden oder -Ritzen. Damit ist der Laser ein flexibles und produktives Präzisionswerkzeug.
Um den Wirkungsgrad zu steigern und die Integration kristalliner Solarzellen in einem Modul zu verbessern, müssen die Frontkontakte durch den Silizium-Wafer zur Rückseite geführt werden. Der Durchmesser der dazu notwendigen Bohrungen ist abhängig von der Kontaktierungstechnologie. Abbildung X zeigt beispielhaft eine Bohrung in Silizium mit einem Durchmesser von ungefähr 80 µm, wie sie für das sogenannte EWT-Verfahren (Emitter Wrapped Through) benötigt wird. Mit der TruMicro Serie 3000 sind, abhängig von der Dicke des Silizum-Wafers, mehrere tausend Bohrungen pro Sekunde möglich.
In der Photovoltaik wird die TruMicro Serie 3000 für die Kantenisolierung von kristallinen Solarzellen eingesetzt. Denn während des Produktionsprozesses entsteht ein Kurzschluss von der Vorderseite über die Kanten der Solarzelle zur Rückseite. Das reduziert die Effizienz der Zelle. Bei der Kantenisolierung mit der TruMicro Serie 3000 wird ein Graben entlang der Kante erzeugt, der die Vorder- von der Rückseite elektrisch trennt. Dieser Isolationsgraben hat typischerweise eine Breite von 50 µm und Tiefen von 10 bis 20 µm.
